整体步骤异常繁琐，而且需要时刻注意反应过程中的温度、气压等外部条件。
毕竟化学反应是所有反应中最复杂，也是突变型最高的。
除此之外，在处理光吸收层的同时，还需要在中途将p电层刻蚀上去。
这一步骤才是最坑的地方。
因为刻蚀p电层是没有一个固定的时间节点的。
在处理特殊的晶状结构的时候，有些基板可能一次流程走完就已经达到了标准。
但另外还有其他的基板可能走上三次、四次甚至五六次流程都不一定能达到标准。
所以在处理的过程中，每一次流程走完后，都需要对每一块基板进行光学检查。
确认特殊的晶状结构形成后，就要将其分离开来进行下一步。
而没有形成特殊晶状结构的基板，需要进行重复处理，直到特殊晶状结构在表面形成。
需要的处理过程次数是不定的。
有些倒霉的可能处理上十来次都不一定能让特殊晶状结构形成。
虚拟屏幕上，有专家发送弹幕提问题。
让基板一直呆在离子溶液中不断重复处理可以确保特殊晶状结构形成不可以吗？
对此，韩元也只能摇头表示这种方法不可行。
因为基板上的特殊晶状结构只有在一到两层的时候，才能发挥它的最大作用效果。
所以这也是在处理时，硅酸镓镧离子溶液的浓度必须使用离子水进行稀释到一定程度的原因。
硅酸镓镧离子溶液的浓度在太高，会在基板上迅速且稳定的形成超过三层的特殊晶状结构。
会导致整块‘镧化镓硅薄膜太阳能薄膜发电板’的光电转换率下跌。
而且下跌的幅度很高。
每多一层，其光电转换率能下降接近百分之五左右。
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