了十来分钟后，韩元才恢复一点精力，站起身，拉过镜头道：
“现在‘分布式布拉格反射镜’的氮化硅基底已经制备好了，接下来我要给它进行周期性镀刻有源层和薄膜层了。”
“虽然利用化学气相沉积法制备布拉格反射镜相对于其他方法来说步骤要多一些，但实际制取起来，在有专门仪器的情况下，速度是要快一点的。”
“第一步要做的是将刚刚制备出来的氮化硅材料清洗干净，然后放入腔室内进行加热升温。”
“等到温度提升到一定程度后，使用‘等热-离子掺杂法’在表面侵入一层离子镀层。”
“这里可以使用离子注入机，对比‘离子掺杂发’来说效果会更好一点。”
“因为高能离子注入机能将离子更深入的注入到氮化硅基底晶格里面去。”
“而且相对来说，使用高能离子注入机注入离子层需要的时间更短一些，更适合批量生产。”
“不过缺点也是有的，在使用高能离子注入机后，高速碰撞的离子会损坏氮化硅基底的晶格，需要进行一次氮化硅离子的填充补入。”
“至于使用等热-离子掺杂法，耗时会长不少。”
“处理一块氮化硅基底，如果说高能离子注入机启动后只需要三分钟的时间，那么使用‘等热-离子掺杂法’需要两个小时以上的时间。”
“而且过程中必须有人时刻盯着离子溶液中的离子浓度指数，在降低到警戒线前必须立刻补充。”
“至于优点也还是有的，‘等热-离子掺杂法’破坏氮化硅基底晶格系数低，不需要额外在进行一次补入氮化硅离子材料操作。”
这一次韩元说的一番话，直播间里面的观众倒是有不少都听懂了。
毕竟之前韩元用过不少次‘等热-离子掺杂法’了，而每一次使用，都会顺带讲解一下优缺点什么的。
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