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第887章 最正确的决定(1 / 5)

1975年,倭国人提出了以通产省为中心的“下世代电子计算机用vlsi研究开发计划”构想,设立了官方与民间共同参与的“超大规模集成电路(vlsi)研究开发政策委员会”。

1976年3月,经通产省、大藏省等多次协商,倭国政府启动了“dram制法革新”国家项目。由政府出资320亿日元,日立、nec、富士通、三菱、东芝五大公司联合筹资400亿日元。总计投入720亿日元(以当时汇率计算约2.36亿美金)为基金,由倭国电子综合研究所和计算机综合研究所牵头,设立国家性科研机构——vlsi技术研究所。

这可以说是一次倭国版本的“举国体制”会战。

这次会战充分发挥出了这种“举国体制”的优势,倭国的官产学三位一体,协调发展,通力合作,齐心协力,针对高难度、高风险的研究项目,vlsi研究所组织多个实验室通力合作,调动各单位的积极性,发挥良性竞争,各企业之间技术共享合作,共同提高dram量产成功率。

到1980年,倭国人宣布完成了“dram制法革新国家项目”。期间申请的实用新型专利和商业专利,分别达到1210件和347件。研发的主要成果包括各型号电子束曝光设备,采用紫外线、x射线、电子束的各型制版复印设备、干式蚀刻设备等,取得了一系列引人注目的成果,为赢得第一次倭米半导体战争打下了坚实的产业和科研基础。

在这次“会战”之前,倭国虽然可以生产dram内存芯片,但是最为关键的生产制程设备和原材料主要来自米国,为了补足短板,倭国人组织了800余名技术人员进行重点攻关,共同研制高性能的国产化dram生产设备,不仅实现了64k dram和128k dram的商用化,更是于1983年实现了256k dram商用化的关键生产制程设备,目前正在向512k及1

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